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抛光片回收

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上海抛光片回收

发布时间:2017/05/01 点击量:
  一:抛光片图片如上
 
  二、回收范围
 
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  五、半导体硅片的化学清洗技术
 
  硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,一般讲硅片表面沾污大致可分在三类:
 
  A.有机杂质沾污:可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来
 
  去除。
 
  B.颗粒沾污:运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径≥0.4μm颗粒,利用兆声波可去除≥0.2μm颗粒。
 
  C.金属离子沾污:必须采用化学的方法才能清洗其沾污,硅片表面金属杂质沾污有两大类:
 
  a.一类是沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。
 
  b.另一类是带正电的金属离子得到电子后面附着(尤如“电镀”)到硅片表面。
 
  硅抛光片的化学清洗目的就在于要去除这种沾污,一般可按下述办法进行清洗去除沾污。
 
  a.使用强氧化剂使“电镀”附着到硅表面的金属离子、氧化成金属,溶解在清洗液中或吸附在硅片表面。
 
  b.用无害的小直径强正离子(如H+)来替代吸附在硅片表面的金
 
  属离子,使之溶解于清洗液中。
 
  c.用大量去离水进行超声波清洗,以排除溶液中的金属离子。
 
  自1970年美国RCA实验室提出的浸泡式RCA化学清洗工艺得到了广泛应用,1978年RCA实验室又推出兆声清洗工艺,近几年来以RCA清洗理论为基础的各种清洗技术不断被开发出来,例如:
 
  ⑴美国FSI公司推出离心喷淋式化学清洗技术。
 
  ⑵美国原CFM公司推出的Full-Flowsystems封闭式溢流型清洗技术。
 
  ⑶美国VERTEQ公司推出的介于浸泡与封闭式之间的化学清洗技术(例GoldfingerMach2清洗系统)。
 
  ⑷美国SSEC公司的双面檫洗技术(例M3304DSS清洗系统)。
 
  ⑸曰本提出无药液的电介离子水清洗技术(用电介超纯离子水清洗)使抛光片表面洁净技术达到了新的水平。
 
  ⑹以HF/O3为基础的硅片化学清洗技术。
 
  目前常用H2O2作强氧化剂,选用HCL作为H+的来源用于清除金属离子。
 
  SC-1是H2O2和NH4OH的碱性溶液,通过H2O2的强氧化和NH4OH的溶解作用,使有机物沾污变成水溶性化合物,随去离子水的冲洗而被排除。
 
  由于溶液具有强氧化性和络合性,能氧化Cr、Cu、Zn、Ag、Ni、Co、Ca、Fe、Mg等
 
  使其变成高价离子,然后进一步与碱作用,生成可溶性络合物而随去离子水的冲洗而被去除。
 
  为此用SC-1液清洗抛光片既能去除有机沾污,亦能去除某些金属沾污。
 
  SC-2是H2O2和HCL的酸性溶液,它具有极强的氧化性和络合性,能与氧以前的金属作用生成盐随去离子水冲洗而被去除。被氧化的金属离子与CL-作用生成的可溶性络合物亦随去离子水冲洗而被去除。
 
  在使用SC-1液时结合使用兆声波来清洗可获得更好的效果。
 
  总结:
 
  1.用RCA法清洗对去除粒子有效,但对去除金属杂质Al、Fe效果很小。
 
  2.DHF清洗不能充分去除Cu,HPM清洗容易残留Al。
 
  3.有机物,粒子、金属杂质在一道工序中被全部去除的清洗方
 
  法,目前还不能实现。
 
  4.为了去除粒子,应使用改进的SC-1液即APM液,为去除金属杂质,应使用不附着Cu的改进的DHF液。
 
  5.为达到更好的效果,应将上述新清洗方法适当组合,使清洗效果最佳。
 
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